武汉光电国家研究中心团队攻克光刻胶关键技术
近日,武汉光电国家研究中心团队在光刻胶研发领域取得重大进展,成功自主研发出合成光刻胶所需的关键原材料及配方,推动我国半导体制造的关键材料实现突破。 据悉,团队研发的T150A光刻胶系列产品已通过半导体工艺的量产验证,达成了原材料完全国产化以及配方的自主设计,为我国半导体制造开创了新局面。 光刻胶作为
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